表面钝化-1988年 stability of hydrogen in silicon nitride films deposited by low-

发表于 2011-5-12 13:33:18 | 查看全部 |阅读模式

SiNx：钝化 LPCVD, PECVD, 基础。

stability of hydrogen in silicon nitride films deposited by low-pressure and plasma enhanced chemical vapor deposition techniques

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