薄膜物理与技术

可乐

薄膜物理与技术



【作/译者】杨邦朝

【出版日期】1994年01月


内容提要：薄膜物理与薄膜技术均是正在发展的学科与技术,有关薄膜的性质,薄膜形成机理的某些内容还处于探讨中,薄膜技术也在不断发展与完善之中;因此,《薄膜物理与技术》只能着重介绍薄膜物理与薄膜技术的基本内容,不可能对这两大部分的广阔而丰富的内容作全面而详尽的论述。 《薄膜物理与技术》为电子材料与元器件专业本科专业基础教材,也可供物理电子技术、半导体物理与器件、应用物理、敏感材料与传感器等专业的本科生和研究生,以及从事薄膜材料、薄膜物理、薄膜技术和电子材料与元器件、混合微电子技术等厂所的工程技术人员使用和参考。

目录：

第一章 真空技术基础

第二章 真空蒸发镀膜法

第三章 溅射镀膜 　　
3-1 溅射镀膜的特点 　　
3-2 溅射的基本原理 　　
3-3 溅射镀膜类型

第四章离子镀膜

第五章化学气相沉积

第六章溶液镀膜法

第七章薄膜的形成
7-1凝结过程
7-2核形成与生长
7-3薄膜形成过程与生长模式
7-4溅射薄膜的形成过程
7-5薄膜的外延生长
7-6薄膜形成过程的计算机模拟

第八章薄膜的结构与缺陷
8-1薄膜的结构
8-2薄膜的缺陷
8-3薄膜结构与组分的分析方法

第九章薄膜的性质
9-1薄膜的力学性质
9-2金属薄膜的电学性质
9-3介质薄膜的电学性质
9-4半导体薄膜的性质
9-5薄膜的其他性质