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硅片清洗改进

发表于 2008-12-10 15:31:41 | 查看全部 |阅读模式
我公司目前硅片清洗时间:HCl酸9min→水3min→HF酸3min→水9min
    我想请教一下各位大哥有没有什么很好的改进方案,比如说怎样缩短酸的清洗时间,溶液浓度应该怎样配比。
           谢谢啊
发表于 2008-12-10 22:17:49 | 查看全部
我们也想知道我们公司的流程及工艺,可惜,这是公司的机密
 楼主| 发表于 2008-12-12 03:16:35 | 查看全部
不用这样吧?大哥
发表于 2008-12-19 08:12:01 | 查看全部
从没有看到过这样问别的公司的技术机密的,你也换个方式呢,真是的,以为别人都是笨蛋!
发表于 2008-12-19 10:22:28 | 查看全部
没有酸的浓度有什么用 啊???????????? :Q :Q :Q :Q
发表于 2009-1-9 14:49:30 | 查看全部
不容易搞到
发表于 2009-2-1 21:28:39 | 查看全部
请吿诉工序,不同工序不一样
发表于 2009-5-24 15:01:23 | 查看全部
你们那用的那里的清、洗机
发表于 2009-6-6 09:50:40 | 查看全部
你们为什么不用配好的硅片专用清洗剂呢
发表于 2010-12-12 10:21:20 | 查看全部
我们用的是专门的清洗剂,还不错
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